Selective etching of SiO 2 nanospheres as reservoirs for pH‐sensitive release of cis ‐diamminedichloroplatinum(II)

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of chemical technology and biotechnology (1986) 2019-11, Vol.94 (11), p.3505-3511
Hauptverfasser: Hernández‐Castillo, Daniela J, Alvarez‐Lemus, Mayra A, de la Cruz‐Hernández, Erick N, López‐González, Rosendo, García Mendoza, Cinthia
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0268-2575
1097-4660
DOI:10.1002/jctb.5934