Corrosion‐Resistant Microprocess Apparatuses by Means of CVD Coating with Tantalum

Die Wandstärken mikroverfahrenstechnischer Apparate sind mit denen konventioneller Rührkessel in der chemischen Industrie nicht vergleichbar. Bereits Chargenunterschiede innerhalb der technischen Spezifikationen für übliche korrosionsbeständige Werkstoffe können zu signifikanten Abweichungen der Abtragsraten führen und die Lebensdauer signifikant begrenzen. Um Korrosionserscheinungen möglichst vollständig auszuschließen, eignet sich Tantal aufgrund seiner hervorragenden Beständigkeit sehr gut. Es wird gezeigt, dass für Mikroapparate typische Kanalquerschnitte bei großer Länge mittels einer CVD‐Beschichtung völlig defektfrei und homogen mit Tantal beschichtet werden können. Dauertests in 70 %iger Schwefelsäure ergaben keinerlei Masseverlust oder Abtrag. The wall thickness of microprocess apparatuses is not comparable to those of stirred vessels used in chemical industries. Already changes of the composition of corrosion resistant alloys in the range of the specification may cause severe deviations of the corrosion rate. Ideally, for micro process apparatuses, completely suppression of corrosion should be accomplished. Therefore, tantalum is the material of choice due to its superior corrosion resistance. It is demonstrated that microchannels possessing a small cross section but large length could be homogeneous coated with tantalum by means of a CVD process without any defects. Corrosion tests in 70 % sulfuric acid proved that no loss of weight or corrosion occurred.