Organic Semiconductors: Dry Lithography of Large‐Area, Thin‐Film Organic Semiconductors Using Frozen CO 2 Resists (Adv. Mater. 46/2012)

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Advanced materials (Weinheim) 2012-12, Vol.24 (46), p.6116-6116
Hauptverfasser:	Bahlke, Matthias E., Mendoza, Hiroshi A., Ashall, Daniel T., Yin, Allen S., Baldo, Marc A.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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