Plasma Source Ion Implantation of Polyimide Film in Improving Conductivity

Current ion implantation and low temperature plasma technique have been shown to be quite effective in modifying the surface properties of materials.Plasma source ion implantation (PSII), a new innovative and cost-effective process developed for surface modification of materials, represents an excel...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	中国科学通报：英文版 1993 (6), p.510-513
1. Verfasser:	吴知非 施云城 陈惠敏 陈英方
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	conductivity implantation ion plasma polyimide source
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!