Formation and Removement Mechanism of Haze Defects on(111)p-type Silicon Wafers

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:稀有金属:英文版 1994 (1), p.31-36
1. Verfasser: 徐岳生 李养贤 刘彩池 鞠玉林 唐建 朱则韶
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1001-0521
1867-7185