CVI B-C基体改性2D C/SiC在低温湿氧中的自愈合行为

针对C/SiC低温氧化易失效的不足,研究了CVIB—C基体改性2DC/SiC在700℃湿氧中100MPaF加载至60h的氧化行为,利用SEM和TEM观察了改性材料不同服役时间的微结构特征,揭永了演变规律.研究表明,CVIB-C基体改性使C/SiC低温抗氧化能力显著提升.基体裂纹及其在应力加载下的开裂均为氧化气体提供进入通道,而后可被B-C氧化产物B2O3封填,抑制内部C消耗.CVIB—C与其氧化产物一同参与缺陷愈合.在60h内,B—C改性层愈合能力尚未完全发挥,可服役更长时间....

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Veröffentlicht in:Wu ji cai liao xue bao 2010 (11), p.1199-1203
1. Verfasser: 李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬
Format: Artikel
Sprache:chi
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container_end_page 1203
container_issue 11
container_start_page 1199
container_title Wu ji cai liao xue bao
container_volume
creator 李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬
description 针对C/SiC低温氧化易失效的不足,研究了CVIB—C基体改性2DC/SiC在700℃湿氧中100MPaF加载至60h的氧化行为,利用SEM和TEM观察了改性材料不同服役时间的微结构特征,揭永了演变规律.研究表明,CVIB-C基体改性使C/SiC低温抗氧化能力显著提升.基体裂纹及其在应力加载下的开裂均为氧化气体提供进入通道,而后可被B-C氧化产物B2O3封填,抑制内部C消耗.CVIB—C与其氧化产物一同参与缺陷愈合.在60h内,B—C改性层愈合能力尚未完全发挥,可服役更长时间.
format Article
fullrecord <record><control><sourceid>chongqing</sourceid><recordid>TN_cdi_chongqing_backfile_36230782</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><cqvip_id>36230782</cqvip_id><sourcerecordid>36230782</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-chongqing_backfile_362307823</originalsourceid><addsrcrecordid>eNpjYeA0NDAw0DU2MongYOAtLs5MMjAwN7EwMTEz52Rwdg7zVHB6v6fX-en8XU_2Tn42ZeezhuVGLgrO7_f0B2c6P52z4snevmc7Vj7buf_ZhuVPdqx9PqvlRfuqZy0dTyd0vFjY82THLh4G1rTEnOJUXijNzaDk5hri7KGbnJGfl16YmZcen5SYnJ2WmZMab2xmZGxgbmFkTJQiAMI4SxQ</addsrcrecordid><sourcetype>Publisher</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>article</recordtype></control><display><type>article</type><title>CVI B-C基体改性2D C/SiC在低温湿氧中的自愈合行为</title><source>EZB-FREE-00999 freely available EZB journals</source><creator>李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬</creator><creatorcontrib>李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬</creatorcontrib><description>针对C/SiC低温氧化易失效的不足,研究了CVIB—C基体改性2DC/SiC在700℃湿氧中100MPaF加载至60h的氧化行为,利用SEM和TEM观察了改性材料不同服役时间的微结构特征,揭永了演变规律.研究表明,CVIB-C基体改性使C/SiC低温抗氧化能力显著提升.基体裂纹及其在应力加载下的开裂均为氧化气体提供进入通道,而后可被B-C氧化产物B2O3封填,抑制内部C消耗.CVIB—C与其氧化产物一同参与缺陷愈合.在60h内,B—C改性层愈合能力尚未完全发挥,可服役更长时间.</description><identifier>ISSN: 1000-324X</identifier><language>chi</language><subject>B-C涂层 ; CVI ; C/SiC复合材料 ; SEM ; TEM ; 基体改性 ; 自愈合</subject><ispartof>Wu ji cai liao xue bao, 2010 (11), p.1199-1203</ispartof><lds50>peer_reviewed</lds50><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Uhttp://image.cqvip.com/vip1000/qk/93432X/93432X.jpg</thumbnail><link.rule.ids>314,780,784,4023</link.rule.ids></links><search><creatorcontrib>李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬</creatorcontrib><title>CVI B-C基体改性2D C/SiC在低温湿氧中的自愈合行为</title><title>Wu ji cai liao xue bao</title><addtitle>Journal of Inorganic Materials</addtitle><description>针对C/SiC低温氧化易失效的不足,研究了CVIB—C基体改性2DC/SiC在700℃湿氧中100MPaF加载至60h的氧化行为,利用SEM和TEM观察了改性材料不同服役时间的微结构特征,揭永了演变规律.研究表明,CVIB-C基体改性使C/SiC低温抗氧化能力显著提升.基体裂纹及其在应力加载下的开裂均为氧化气体提供进入通道,而后可被B-C氧化产物B2O3封填,抑制内部C消耗.CVIB—C与其氧化产物一同参与缺陷愈合.在60h内,B—C改性层愈合能力尚未完全发挥,可服役更长时间.</description><subject>B-C涂层</subject><subject>CVI</subject><subject>C/SiC复合材料</subject><subject>SEM</subject><subject>TEM</subject><subject>基体改性</subject><subject>自愈合</subject><issn>1000-324X</issn><fulltext>true</fulltext><rsrctype>article</rsrctype><creationdate>2010</creationdate><recordtype>article</recordtype><recordid>eNpjYeA0NDAw0DU2MongYOAtLs5MMjAwN7EwMTEz52Rwdg7zVHB6v6fX-en8XU_2Tn42ZeezhuVGLgrO7_f0B2c6P52z4snevmc7Vj7buf_ZhuVPdqx9PqvlRfuqZy0dTyd0vFjY82THLh4G1rTEnOJUXijNzaDk5hri7KGbnJGfl16YmZcen5SYnJ2WmZMab2xmZGxgbmFkTJQiAMI4SxQ</recordid><startdate>2010</startdate><enddate>2010</enddate><creator>李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬</creator><scope>2RA</scope><scope>92L</scope><scope>CQIGP</scope><scope>W92</scope><scope>~WA</scope></search><sort><creationdate>2010</creationdate><title>CVI B-C基体改性2D C/SiC在低温湿氧中的自愈合行为</title><author>李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-chongqing_backfile_362307823</frbrgroupid><rsrctype>articles</rsrctype><prefilter>articles</prefilter><language>chi</language><creationdate>2010</creationdate><topic>B-C涂层</topic><topic>CVI</topic><topic>C/SiC复合材料</topic><topic>SEM</topic><topic>TEM</topic><topic>基体改性</topic><topic>自愈合</topic><toplevel>peer_reviewed</toplevel><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬</creatorcontrib><collection>中文科技期刊数据库</collection><collection>中文科技期刊数据库-CALIS站点</collection><collection>中文科技期刊数据库-7.0平台</collection><collection>中文科技期刊数据库-工程技术</collection><collection>中文科技期刊数据库- 镜像站点</collection><jtitle>Wu ji cai liao xue bao</jtitle></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext</fulltext></delivery><addata><au>李思维 张立同 刘永胜 成来飞 冯祖德 栾新刚 张伟华 杨文彬</au><format>journal</format><genre>article</genre><ristype>JOUR</ristype><atitle>CVI B-C基体改性2D C/SiC在低温湿氧中的自愈合行为</atitle><jtitle>Wu ji cai liao xue bao</jtitle><addtitle>Journal of Inorganic Materials</addtitle><date>2010</date><risdate>2010</risdate><issue>11</issue><spage>1199</spage><epage>1203</epage><pages>1199-1203</pages><issn>1000-324X</issn><abstract>针对C/SiC低温氧化易失效的不足,研究了CVIB—C基体改性2DC/SiC在700℃湿氧中100MPaF加载至60h的氧化行为,利用SEM和TEM观察了改性材料不同服役时间的微结构特征,揭永了演变规律.研究表明,CVIB-C基体改性使C/SiC低温抗氧化能力显著提升.基体裂纹及其在应力加载下的开裂均为氧化气体提供进入通道,而后可被B-C氧化产物B2O3封填,抑制内部C消耗.CVIB—C与其氧化产物一同参与缺陷愈合.在60h内,B—C改性层愈合能力尚未完全发挥,可服役更长时间.</abstract></addata></record>
fulltext fulltext
identifier ISSN: 1000-324X
ispartof Wu ji cai liao xue bao, 2010 (11), p.1199-1203
issn 1000-324X
language chi
recordid cdi_chongqing_backfile_36230782
source EZB-FREE-00999 freely available EZB journals
subjects B-C涂层
CVI
C/SiC复合材料
SEM
TEM
基体改性
自愈合
title CVI B-C基体改性2D C/SiC在低温湿氧中的自愈合行为
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-08T20%3A51%3A03IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-chongqing&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.genre=article&rft.atitle=CVI%20B%EF%BC%8DC%E5%9F%BA%E4%BD%93%E6%94%B9%E6%80%A72D%20C%EF%BC%8FSiC%E5%9C%A8%E4%BD%8E%E6%B8%A9%E6%B9%BF%E6%B0%A7%E4%B8%AD%E7%9A%84%E8%87%AA%E6%84%88%E5%90%88%E8%A1%8C%E4%B8%BA&rft.jtitle=Wu%20ji%20cai%20liao%20xue%20bao&rft.au=%E6%9D%8E%E6%80%9D%E7%BB%B4%20%E5%BC%A0%E7%AB%8B%E5%90%8C%20%E5%88%98%E6%B0%B8%E8%83%9C%20%E6%88%90%E6%9D%A5%E9%A3%9E%20%E5%86%AF%E7%A5%96%E5%BE%B7%20%E6%A0%BE%E6%96%B0%E5%88%9A%20%E5%BC%A0%E4%BC%9F%E5%8D%8E%20%E6%9D%A8%E6%96%87%E5%BD%AC&rft.date=2010&rft.issue=11&rft.spage=1199&rft.epage=1203&rft.pages=1199-1203&rft.issn=1000-324X&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cchongqing%3E36230782%3C/chongqing%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rft_cqvip_id=36230782&rfr_iscdi=true