用于器件描述和电路仿真的新型多晶硅TFT直流模型
提出一种新型的多晶硅薄膜晶体管电流-电压物理模型,考虑了陷阱态密度的V形指数分布,运用Lambert W函数推出了表面势的显式求解方法,大大提高了运算效率,在电路仿真中发挥了重要作用,基于指数的陷阱态密度和计算的表面势,描述了亚阈值区和强反型区的漏电流特性。推导了完整、统一的漏电流表达式,包括翘曲效应,在很广的沟道长度范围和工作区内,模型和实验数据一致。...
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Veröffentlicht in: | Journal of semiconductors 2007, Vol.28 (12), p.1916-1923 |
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1. Verfasser: | |
Format: | Artikel |
Sprache: | chi |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | 提出一种新型的多晶硅薄膜晶体管电流-电压物理模型,考虑了陷阱态密度的V形指数分布,运用Lambert W函数推出了表面势的显式求解方法,大大提高了运算效率,在电路仿真中发挥了重要作用,基于指数的陷阱态密度和计算的表面势,描述了亚阈值区和强反型区的漏电流特性。推导了完整、统一的漏电流表达式,包括翘曲效应,在很广的沟道长度范围和工作区内,模型和实验数据一致。 |
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ISSN: | 1674-4926 |