双源电子束蒸发制备Si／SiO2光学薄膜的工艺

双源电子束蒸发制备Si／SiO2光学薄膜的工艺

用双源电子束蒸发的方法，在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜．通过改变两种膜料蒸发速率的比例，得到的各个膜层，其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化．从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO2蒸发速率比变化的规律，并讨论了这种淀积方法的优越性．...

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Veröffentlicht in:Journal of semiconductors 2006, Vol.27 (9), p.1586-1589
1. Verfasser: 赵妙 周代兵 谭满清 王晓东 吴旭明
Format: Artikel
Sprache:chi
Schlagworte:
介质光学膜
双源电子束蒸发
折射率
蒸发速率
薄膜
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Beschreibung
Zusammenfassung:用双源电子束蒸发的方法，在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜．通过改变两种膜料蒸发速率的比例，得到的各个膜层，其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化．从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO2蒸发速率比变化的规律，并讨论了这种淀积方法的优越性．
ISSN:1674-4926