集成电路中多晶硅薄膜载流子迁移率的实验

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of semiconductors 1989, Vol.10 (4), p.286-293
1. Verfasser:	王阳元 张爱珍
Format:	Artikel
Sprache:	chi
Schlagworte:	多晶硅 载流子迁移率 集成电路
Online-Zugang:	Volltext
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