Fenothiocarb の太陽光によるシリカゲル板上での光分解

14C-フェノチオカルブの太陽光による分解を検討した. フェノチオカルブをシリカゲル板上で72時間太陽光に照射した場合, 親化合物は34%残存し, 半減期は約45時間と推定された. 12個の光分解物が検出され, 同定された化合物は, S-4-phenoxybutyl N-formyl-N-methylthiocarbamate, S-4-phenoxybutyl N-methylthiocarbamate, bis(4-phenoxybutyl)thiolsulfinate, bis(4-phenoxybutyl)thiolsulfonate, fenothiocarb sulfoxide および 4-phenoxybutylsulfonic acid であった. フェノチオカルブの第一の分解部位は分子中のイオウ原子の酸化反応によるスルホキシドの生成で, 次いで本化合物から形成される 4-phenoxybutylsulfenic acid 中間体の酸化や2量化反応が起こることが想定された. 第二の分解部位は N-methyl 基の酸化反応と考えられた.