Comparative study of organic, inorganic and hybrid gate dielectrics for organic field effect transistors using semiconducting liquid crystal polymers von Tetzner, Kornelius

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High-k gate dielectrics for CMOS technology

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High-k gate dielectrics for CMOS technology

Herstellung ultra-dünner hoch-[epsilon]r Oxide und deren Verhalten unter dynamischen elektrischen Stressbedingungen von Knebel, Steve 1980-

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Herstellung ultra-dünner hoch-[epsilon]r Oxide und deren Verhalten unter dynamischen elektrischen Stressbedingungen von Knebel, Steve 1980-

DE-1050
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Charakterisierung von Metall-Oxid-Halbleiter-Strukturen auf der Silicium- und Kohlenstoffseite von 4H-Siliciumcarbid von Grieb, Michael 1980-

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Herstellung und Charakterisierung von Metall-Oxid-Halbleiter-Kondensatoren und Feldeffekttransistoren auf 4H-Siliciumcarbid von Strenger, Christian 1982-

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Optimierung der Stickstoffkonzentrationen in Gatedielektrika und -elektroden für fortschrittliche CMOS-Technologien von Beichele, Matthias 1969-

High-k gate dielectrics for CMOS technology

Leakage current and defect characterization of short channel MOSFETs von Roll, Guntrade

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Vertikaler Tunnel-Feldeffekttransistor auf Silizium von Sedlmaier, Stefan

Entwicklung und Charakterisierung von integrierten Schaltungen auf Siliciumcarbid für den Betrieb bei hohen Temperaturen von Le-Huu, Martin 1981-

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Crystalline hafnia and zirconia based dielectrics for memory applications von Böscke, Tim S.

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Elektrische Charakterisierungen und Zuverlässigkeitsuntersuchungen sehr dünner Oxid-/Nitrid-Dielektrika von Yuwono, Budy 1970-

Gateisolatoren für MOS-Feldeffekttransistoren von Pompl, Thomas

Molecular beam deposition (MBD) and characterisation of high-k material as alternative gate oxides for MOS-technology von Capodieci, Vanessa

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Zur Herstellung und elektrischen Charakterisierung von Gate-Oxiden auf Siliziumkarbid von Stein von Kamienski, Elard Gottfried

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Charakterisierung von MOS-Transistoren vor und nach Gateoxiddurchbruch von Avellán Hampe, Alejandro

Entwicklung eines Triple-Gate-CMOS-Prozesses auf SOI-Material von Lemme, Max Christian 1970-

Latent gate oxide damage induced by ultra fast electrostatic discharge von Reiner, Joachim Christian