Optical physics for nanolithography
This book provides an in-depth, self-contained introduction of partially coherent imaging theory for researchers and engineers working on optical lithography for semiconductor manufacturing, including those in the EDA industry. It is mathematically complete: the opening chapters discuss the essentia...
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| Hauptverfasser: | , |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Bellingham, Washington
SPIE Press
[2018]
|
| Schriftenreihe: | SPIE Press monograph
PM284 |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
| Tags: |
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DE-92
URL des Erstveröffentlichers
Optical physics for nanolithography
Veröffentlicht 2018
DE-1050
DE-92
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Elektronisch
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