Role of substrates morphology and chemistry in ALD HfO₂ on Si(111)-H terminated surfaces as model
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Cottbus ; Senftenberg
2017
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| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | kostenfrei kostenfrei kostenfrei |
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| Beschreibung: | ii, 144 Seiten Illustrationen, Diagramme |
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