Theoretische Simulation von TVS- und TSIC- Charakteristiken des Na + -Ionentransportes in der MOS- Isolatorschicht bei Berücksichtigung des Implantationseinflusses
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
1986
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| Beschreibung: | 103, 5 Bl. |
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