Silicide thin films fabrication, properties, and applications ; symposium held November 27 - 30, 1995, Boston, Massachusetts, USA

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Tung, Raymond T. (HerausgeberIn)
Format: Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: Pittsburgh, Pa. Materials Research Soc. 1996
Schriftenreihe:Materials Research Society symposium proceedings 402
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Beschreibung
Beschreibung:XV, 648 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:1558993053