Untersuchungen zur Formierung von Silizium-Kobaltdisilizid-Schichtsystemen durch Hochdosisionenimplantation und thermische Nachbehandlung

Untersuchungen zur Formierung von Silizium-Kobaltdisilizid-Schichtsystemen durch Hochdosisionenimplantation und thermische Nachbehandlung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Schippel, Stefan (VerfasserIn)
Format:	Buch
Sprache:	German
Veröffentlicht:	1993
Schlagworte:	Cobalt Silicium Ionenimplantation Dünne Schicht Tempern Hochschulschrift
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