Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Eichinger, Peter (VerfasserIn)
Format:	Buch
Sprache:	German
Veröffentlicht:	Karlsruhe Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik 1985
Ausgabe:	Als Ms. gedr.
Schriftenreihe:	Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T 1985,59
Schlagworte:	Nachweis Silicium Wasserstoff Plasmanitridschicht
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