An In Situ Synchrotron X‐Ray Diffraction Study on the Influence of Hydrogen on the Crystallization of Ge‐Rich Ge 2 Sb 2 Te 5
To passivate Si − SiO 2 dangling bonds, metal–oxide–semiconductor field‐effect transistor devices are usually treated with hydrogen. Herein, the effects of such a treatment on the crystallization behavior on N‐doped, Ge‐rich Ge 2 Sb 2 Te 5 phase‐change materials for memory applications are investiga...
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Veröffentlicht in: | Physica status solidi. PSS-RRL. Rapid research letters 2022-09, Vol.16 (9), p.n/a |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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