Metal-organic CVD of Y2O3 Thin Films using Yttrium tris-amidinates

Thin films of Y2O3 are deposited on Si(100) and Al2O3 (0001) substrates via metal‐organic (MO)CVD for the first time using two closely related yttrium tris‐amidinate compounds as precursors in the presence of oxygen in the temperature range 400–700 °C. The structural, morphological, and compositiona...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Chemical vapor deposition 2015-12, Vol.21 (10-11-12), p.335-342
Hauptverfasser:	Karle, Sarah, Dang, Van-Son, Prenzel, Marina, Rogalla, Detlef, Becker, Hans-Werner, Devi, Anjana
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Amidinates Crystallinity MOCVD Thin films Y2O3
Online-Zugang:	Volltext
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