Growth kinetics of the ferroelectric Al-doped HfO2 thin films via synergistic effect of various essential factors
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Veröffentlicht in: | Ceramics international 2021-02, Vol.47 (4), p.4674-4680 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0272-8842 1873-3956 |
DOI: | 10.1016/j.ceramint.2020.10.034 |