VAlN/Si3N4纳米多层涂层的微观组织和力学性能

采用反应溅射方法制备了一系列具有不同Si3N4层厚度的VAlN/Si3N4纳米多层涂层,并对涂层的微观结构和力学性能进行了研究.结果表明,厚度较小(～0.4 nm)的Si3N4结晶与VAlN相干生长,与VAlN单层涂层相比,硬度显着增加.相干VAlN/Si3N4纳米多层涂层的硬度高达48.7 GPa.随着Si3N4层的进一步加厚,纳米多层的相干生长终止,在纳米多层中形成非晶结构,从而硬度下降.另一方面,当Si3N4层厚为0.4 nm时,VAlN/Si3N4纳米多层涂层的摩擦系数几乎等于VAlN单层涂层的摩擦系数,这归因于Si3N4的结晶以及在VAlN和Si3N4中纳米多层涂层的硬化效果.随着S...

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Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	中南大学学报（英文版） 2022, Vol.29 (5), p.1403-1411
Hauptverfasser:	陶贤成, 楼玉民, 李淼磊, 赵宁宁, 唐秀之, 胡海龙, 黄小忠, 岳建岭
Format:	Artikel
Sprache:	chi
Online-Zugang:	Volltext
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