TiO2 nanofilm growth by Ti ion implantation and thermal annealing in O2 atmosphere

TiO2 nanofilms on surface of fused silica were fabricated by Ti ion implantation and subsequent thermal annealing in oxygen ambience. The silica glasses were implanted by 20 k V Ti ions to 1.5 × 10^17ions/cm^2 on an implanter of metal vapor vacuum arc（MEVVA） ion source. Effects of annealing paramete...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	核技术（英文版） 2015-06, Vol.26 (3), p.106-112
1. Verfasser:	周小东 周思华 孙现科 张云丽
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	TiO2纳米粒子 TiO2纳米薄膜 X射线光电子能谱 氧气气氛 热退火 离子注入机 纳米TiO2薄膜 薄膜生长
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