Developments at SSRF in soft X-ray interference lithography

The soft X-ray interference lithography （XIL） branch beamline at Shanghai Synchrotron Radiation Facility （SSRF） is briefly introduced in this article. It is designed for obtaining 1D （line/space） and 2D （dot/hole） periodic nanostructures by using two or more coherent extreme ultraviolet （EUV） beams...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	核技术（英文版） 2015-02, Vol.26 (1), p.1-7
1. Verfasser:	YANG Shu-Min WANG Lian-Sheng ZHAO Jun XUE Chao-Fan LIU Hai-Gang XU Zi-Jian WU Yan-Qing TAI Ren-Zhong
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	SSRF 上海同步辐射装置 光束线 光源 干涉光刻 纳米结构 表面增强拉曼散射 软X射线
Online-Zugang:	Volltext
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