汞离子印迹聚合物的制备及性能研究

汞离子印迹聚合物的制备及性能研究

O63; 采用水合反应法,将功能单体、模板分子、螯合剂、交联剂等在引发剂作用下进行聚合反应,制成膜包裹在大孔树脂表面,制备出汞离子印迹聚合物(M-SIIP-S4).采用红外光谱、表面孔径分析、X-衍射对其结构进行表征.将M-SIIP-S4进行平衡吸附实验,考察M-SIIP-S4对Hg2+的吸附性能,优化了Hg2+溶液初始质量浓度与吸附时间.结果 表明,M-SIIP-S4在Hg2+初始质量浓度为200 mg/L,时间2.5h时,吸附量为57.6 mg/g,吸附率达95％,M-SIIP-S4对几种重金属离子的吸附量大小顺序为Hg2+＞ Al3+＞Zn2+ ＞Ca2+ ＞Cu2+....

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Veröffentlicht in:贵州师范学院学报 2019, Vol.35 (3), p.13-17
Hauptverfasser: 杨佳彬, 王毓, 龙攀峰, 赵君, 周进康
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
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