钼粉表面化学镀铜工艺研究
TQ153.1; 采用化学镀方法对平均粒径3 μm的Mo粉末进行化学镀铜,探讨了工艺条件对化学镀铜的影响.利用扫描电镜(SEM)对钼粉镀覆前后形貌进行观察;X射线衍射(XRD)对所得复合粉末相组成进行了分析.结果表明:采用化学镀的方法可以成功地获得铜含量(质量分数)为15%~85%的Mo/Cu复合粉末,复合粉末中无Cu2O,表面平滑,但有团聚现象;化学镀铜过程中,pH值的临界值为12,随着pH值增加,镀速加快,但是pH值过高会引起甲醛分解,镀液中pH值的最佳范围在12~13之间;随着温度和甲醛含量的升高,镀速加快,镀液稳定性降低,镀液中甲醛含量和温度最佳范围分别为22~26 mL/L,60~7...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | 材料保护 2008, Vol.41 (5), p.36-38 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | chi |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
container_end_page | 38 |
---|---|
container_issue | 5 |
container_start_page | 36 |
container_title | 材料保护 |
container_volume | 41 |
creator | 王光君 王德志 吴壮志 汪异 |
description | TQ153.1; 采用化学镀方法对平均粒径3 μm的Mo粉末进行化学镀铜,探讨了工艺条件对化学镀铜的影响.利用扫描电镜(SEM)对钼粉镀覆前后形貌进行观察;X射线衍射(XRD)对所得复合粉末相组成进行了分析.结果表明:采用化学镀的方法可以成功地获得铜含量(质量分数)为15%~85%的Mo/Cu复合粉末,复合粉末中无Cu2O,表面平滑,但有团聚现象;化学镀铜过程中,pH值的临界值为12,随着pH值增加,镀速加快,但是pH值过高会引起甲醛分解,镀液中pH值的最佳范围在12~13之间;随着温度和甲醛含量的升高,镀速加快,镀液稳定性降低,镀液中甲醛含量和温度最佳范围分别为22~26 mL/L,60~70℃. |
format | Article |
fullrecord | <record><control><sourceid>wanfang_jour</sourceid><recordid>TN_cdi_wanfang_journals_clbh200805011</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><wanfj_id>clbh200805011</wanfj_id><sourcerecordid>clbh200805011</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-wanfang_journals_clbh2008050113</originalsourceid><addsrcrecordid>eNpjYeA0NDAw1DU0NTPgYOAqLs4yMDAxMLYw52RQeTlpz_NNnS8Wrng5d9HTnmlP1y57ObXh5eQ5T7cvfdG56_mCKc9XbuNhYE1LzClO5YXS3Ayqbq4hzh665Yl5aYl56fFZ-aVFeUCZ-OScpAwjAwMLA1MDQ0NjYtUBAKC9O48</addsrcrecordid><sourcetype>Aggregation Database</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>article</recordtype></control><display><type>article</type><title>钼粉表面化学镀铜工艺研究</title><source>Alma/SFX Local Collection</source><creator>王光君 ; 王德志 ; 吴壮志 ; 汪异</creator><creatorcontrib>王光君 ; 王德志 ; 吴壮志 ; 汪异</creatorcontrib><description>TQ153.1; 采用化学镀方法对平均粒径3 μm的Mo粉末进行化学镀铜,探讨了工艺条件对化学镀铜的影响.利用扫描电镜(SEM)对钼粉镀覆前后形貌进行观察;X射线衍射(XRD)对所得复合粉末相组成进行了分析.结果表明:采用化学镀的方法可以成功地获得铜含量(质量分数)为15%~85%的Mo/Cu复合粉末,复合粉末中无Cu2O,表面平滑,但有团聚现象;化学镀铜过程中,pH值的临界值为12,随着pH值增加,镀速加快,但是pH值过高会引起甲醛分解,镀液中pH值的最佳范围在12~13之间;随着温度和甲醛含量的升高,镀速加快,镀液稳定性降低,镀液中甲醛含量和温度最佳范围分别为22~26 mL/L,60~70℃.</description><identifier>ISSN: 1001-1560</identifier><language>chi</language><publisher>中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083</publisher><ispartof>材料保护, 2008, Vol.41 (5), p.36-38</ispartof><rights>Copyright © Wanfang Data Co. Ltd. All Rights Reserved.</rights><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Uhttp://www.wanfangdata.com.cn/images/PeriodicalImages/clbh/clbh.jpg</thumbnail><link.rule.ids>314,776,780,4010</link.rule.ids></links><search><creatorcontrib>王光君</creatorcontrib><creatorcontrib>王德志</creatorcontrib><creatorcontrib>吴壮志</creatorcontrib><creatorcontrib>汪异</creatorcontrib><title>钼粉表面化学镀铜工艺研究</title><title>材料保护</title><description>TQ153.1; 采用化学镀方法对平均粒径3 μm的Mo粉末进行化学镀铜,探讨了工艺条件对化学镀铜的影响.利用扫描电镜(SEM)对钼粉镀覆前后形貌进行观察;X射线衍射(XRD)对所得复合粉末相组成进行了分析.结果表明:采用化学镀的方法可以成功地获得铜含量(质量分数)为15%~85%的Mo/Cu复合粉末,复合粉末中无Cu2O,表面平滑,但有团聚现象;化学镀铜过程中,pH值的临界值为12,随着pH值增加,镀速加快,但是pH值过高会引起甲醛分解,镀液中pH值的最佳范围在12~13之间;随着温度和甲醛含量的升高,镀速加快,镀液稳定性降低,镀液中甲醛含量和温度最佳范围分别为22~26 mL/L,60~70℃.</description><issn>1001-1560</issn><fulltext>true</fulltext><rsrctype>article</rsrctype><creationdate>2008</creationdate><recordtype>article</recordtype><recordid>eNpjYeA0NDAw1DU0NTPgYOAqLs4yMDAxMLYw52RQeTlpz_NNnS8Wrng5d9HTnmlP1y57ObXh5eQ5T7cvfdG56_mCKc9XbuNhYE1LzClO5YXS3Ayqbq4hzh665Yl5aYl56fFZ-aVFeUCZ-OScpAwjAwMLA1MDQ0NjYtUBAKC9O48</recordid><startdate>2008</startdate><enddate>2008</enddate><creator>王光君</creator><creator>王德志</creator><creator>吴壮志</creator><creator>汪异</creator><general>中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083</general><scope>2B.</scope><scope>4A8</scope><scope>92I</scope><scope>93N</scope><scope>PSX</scope><scope>TCJ</scope></search><sort><creationdate>2008</creationdate><title>钼粉表面化学镀铜工艺研究</title><author>王光君 ; 王德志 ; 吴壮志 ; 汪异</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-wanfang_journals_clbh2008050113</frbrgroupid><rsrctype>articles</rsrctype><prefilter>articles</prefilter><language>chi</language><creationdate>2008</creationdate><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>王光君</creatorcontrib><creatorcontrib>王德志</creatorcontrib><creatorcontrib>吴壮志</creatorcontrib><creatorcontrib>汪异</creatorcontrib><collection>Wanfang Data Journals - Hong Kong</collection><collection>WANFANG Data Centre</collection><collection>Wanfang Data Journals</collection><collection>万方数据期刊 - 香港版</collection><collection>China Online Journals (COJ)</collection><collection>China Online Journals (COJ)</collection><jtitle>材料保护</jtitle></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext</fulltext></delivery><addata><au>王光君</au><au>王德志</au><au>吴壮志</au><au>汪异</au><format>journal</format><genre>article</genre><ristype>JOUR</ristype><atitle>钼粉表面化学镀铜工艺研究</atitle><jtitle>材料保护</jtitle><date>2008</date><risdate>2008</risdate><volume>41</volume><issue>5</issue><spage>36</spage><epage>38</epage><pages>36-38</pages><issn>1001-1560</issn><abstract>TQ153.1; 采用化学镀方法对平均粒径3 μm的Mo粉末进行化学镀铜,探讨了工艺条件对化学镀铜的影响.利用扫描电镜(SEM)对钼粉镀覆前后形貌进行观察;X射线衍射(XRD)对所得复合粉末相组成进行了分析.结果表明:采用化学镀的方法可以成功地获得铜含量(质量分数)为15%~85%的Mo/Cu复合粉末,复合粉末中无Cu2O,表面平滑,但有团聚现象;化学镀铜过程中,pH值的临界值为12,随着pH值增加,镀速加快,但是pH值过高会引起甲醛分解,镀液中pH值的最佳范围在12~13之间;随着温度和甲醛含量的升高,镀速加快,镀液稳定性降低,镀液中甲醛含量和温度最佳范围分别为22~26 mL/L,60~70℃.</abstract><pub>中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083</pub></addata></record> |
fulltext | fulltext |
identifier | ISSN: 1001-1560 |
ispartof | 材料保护, 2008, Vol.41 (5), p.36-38 |
issn | 1001-1560 |
language | chi |
recordid | cdi_wanfang_journals_clbh200805011 |
source | Alma/SFX Local Collection |
title | 钼粉表面化学镀铜工艺研究 |
url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-01T13%3A35%3A38IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-wanfang_jour&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.genre=article&rft.atitle=%E9%92%BC%E7%B2%89%E8%A1%A8%E9%9D%A2%E5%8C%96%E5%AD%A6%E9%95%80%E9%93%9C%E5%B7%A5%E8%89%BA%E7%A0%94%E7%A9%B6&rft.jtitle=%E6%9D%90%E6%96%99%E4%BF%9D%E6%8A%A4&rft.au=%E7%8E%8B%E5%85%89%E5%90%9B&rft.date=2008&rft.volume=41&rft.issue=5&rft.spage=36&rft.epage=38&rft.pages=36-38&rft.issn=1001-1560&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cwanfang_jour%3Eclbh200805011%3C/wanfang_jour%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rft_wanfj_id=clbh200805011&rfr_iscdi=true |