THIN FILM TRANSISTOR MANUFACTURE METHOD

A Thin Film Transistor (TFT) manufacture method, comprising manufacture of a gate, a gate isolation layer, a channel layer, and a source/drain. Wherein, the manufacture of the channel layer comprises: forming a first a-Si layer by using a low deposition rate (LDR) (Chemical Vapor Deposition, CVD); f...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HSU, YI-TSAI, LEE, YU-CHOU
Format: Patent
Sprache:eng
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