Scan methods and apparatus for ion implantation
An ion implanter is provided having an ion beam generator for generating an ion beam, a platen for holding a workpiece, such as a semiconductor wafer, and a tilt mechanism for tilting the platen and the wafer with respect to the ion beam. A scan controller mechanically moves the wafer and the platen...
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| Hauptverfasser: | , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
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