Challenges of contact module integration for GaN-based devices in a Si-CMOS environment
The authors report on the integration of an Au-free contact module intended for AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors fabricated in a 200 mm Si complementary metal–oxide–semiconductor facility. Contacts are characterized via transfer line method structures, tunneling electron microscopy, and...
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Veröffentlicht in: | Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 2014-05, Vol.32 (3) |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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