P-type NiOX dielectric-based CMOS inverter logic gate using enhancement-mode GaN nMOS and diamond pMOS transistors
We have demonstrated a complementary metal-oxide-semiconductor inverter logic gate by heterogeneous integration of an enhancement-mode n-channel transistor on GaN and a p-channel transistor on diamond. A thermally grown p-type NiOx is used as the dielectric, and Ni/Au is the gate metal for both tran...
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Veröffentlicht in: | Applied physics letters 2024-12, Vol.125 (25) |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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