Nanoimprint methods for the fabrication of macroscopic plasmonically active metal nanostructures

In this article, we present a refined nanostructuring method, lift-off nanoimprint lithography (LO-NIL), which allows the deposition of high-quality metal nanostructures due to a bilayer resist process and compare it to nano-transfer printing (nTP), a purely additive metal printing technique. LO-NIL...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 2017-02, Vol.121 (8)
Hauptverfasser:	Nagel, Robin D., Filser, Simon, Zhang, Tianyue, Manzi, Aurora, Schönleber, Konrad, Lindsly, James, Zimmermann, Josef, Maier, Thomas L., Scarpa, Giuseppe, Krischer, Katharina, Lugli, Paolo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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