Electrodeposition of nickel plates on copper substrates using PC y PRC
Electrodeposition processes using direct current (DC) require the use of additives to control deposit structure and properties as well as current distribution. The Pulse Current (PC) and Pulse Reverse Current (PRC) techniques improve the properties of deposits based on an appropriate selection of th...
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Veröffentlicht in: | Matéria 2007-12, Vol.12 (4), p.583-588 |
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Hauptverfasser: | , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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