Low-Resistance, High-Yield Electrical Contacts to Atom Scale Si:P Devices Using Palladium Silicide
Scanning tunneling microscopy (STM) enables the fabrication of two-dimensional δ-doped structures in Si with atomistic precision, with applications from tunnel field-effect transistors to qubits. The combination of a very small contact area and the restrictive thermal budget necessary to maintain th...
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Veröffentlicht in: | Physical review applied 2019-03, Vol.11 (3), Article 034071 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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