Correction: Atomic layer deposition of Cu(i) oxide films using Cu(ii) bis(dimethylamino-2-propoxide) and water

Correction: Atomic layer deposition of Cu(i) oxide films using Cu(ii) bis(dimethylamino-2-propoxide) and water

Correction for 'Atomic layer deposition of Cu( i ) oxide films using Cu( ii ) bis(dimethylamino-2-propoxide) and water' by J. R. Avila, et al. , Dalton Trans. , 2017, DOI: 10.1039/c6dt02572b .

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Dalton transactions : an international journal of inorganic chemistry 2017-05, Vol.46 (18), p.6128-6128
Hauptverfasser: Avila, J. R, Peters, A. W, Li, Zhanyong, Ortuño, M. A, Martinson, A. B. F, Cramer, C. J, Hupp, J. T, Farha, O. K
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:Correction for 'Atomic layer deposition of Cu( i ) oxide films using Cu( ii ) bis(dimethylamino-2-propoxide) and water' by J. R. Avila, et al. , Dalton Trans. , 2017, DOI: 10.1039/c6dt02572b .
ISSN:1477-9226
1477-9234
DOI:10.1039/c7dt90077e