New Model for Low-Frequency Noise in Poly-Si Resistors
This paper presents a simple and novel model for low-frequency noise generation in polycrystalline-Si resistors within the number fluctuation model. The grain boundary in polycrystalline-Si thin films is the major source of noise and is modeled as independent symmetric Schottky barriers in series, f...
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Veröffentlicht in: | Key engineering materials 2005-01, Vol.277-279, p.1054-1059 |
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Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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