Resistivity of Thin Films of MoSi sub(2)-Si Composites

Thin films of the composite of molybdenum silicate (MoSi sub(2)) and silicon (Si) were fabricated by radio frequency magnetron sputtering using a target made of a powder mixture of MoSi sub(2) and Si. The composite thin film consisted of two types of molybdenum silicate with hexagonal and unknown cr...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Key engineering materials 2011-01, Vol.485, p.265-268
Hauptverfasser: Hikita, S, Hayashi, T, Sato, Y, Yoshikado, S
Format: Artikel
Sprache:eng
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