Study on silicon-slicing technique using plasma-etching processing

Recently, the demand for the low kerf-loss slice of the silicon wafer for photovoltaic cells is increasing from the point of view of saving raw materials. In this work, we studied the silicon-slicing technique using plasma-etching processing, which is thought to be promising to reduce the kerf loss....

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Solar energy materials and solar cells 2009-06, Vol.93 (6), p.789-791
Hauptverfasser: Yamaguchi, Mitsutaka, Abe, Yoshinori, Masuda, Atsushi, Kondo, Michio
Format: Artikel
Sprache:eng
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