Time-dependent one-dimensional modeling of pulsed plasma discharge in a capillary plasma device
The capillary plasma device is a relatively new technology for producing plasma vapor after ablating the capillary bore wall using high-magnitude pulsed electric power. Time-dependent behavior of the plasma flow in the capillary plasma device is investigated numerically by solving the radially avera...
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on plasma science 2003-08, Vol.31 (4), p.729-735 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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