Nanoimprint patterning for tunable light trapping in large-area silicon solar cells

We demonstrate the flexibility of UV nanoimprint lithography for effective light trapping in p –i –n a-Si:H/μc-Si:H tandem solar cells. A textured polymeric layer covered with pyramidal transparent conductive oxide structures is shown as an ideal system to promote front light scattering and thus enh...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Solar energy materials and solar cells 2011-10, Vol.95 (10), p.2886-2892
Hauptverfasser: Bessonov, Aleksander, Cho, Youngtae, Jung, Seung-Jae, Park, Eun-Ah, Hwang, Eun-Soo, Lee, Jong-Woo, Shin, Myunghun, Lee, Sukwon
Format: Artikel
Sprache:eng
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