Nanoimprint patterning for tunable light trapping in large-area silicon solar cells
We demonstrate the flexibility of UV nanoimprint lithography for effective light trapping in p –i –n a-Si:H/μc-Si:H tandem solar cells. A textured polymeric layer covered with pyramidal transparent conductive oxide structures is shown as an ideal system to promote front light scattering and thus enh...
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Veröffentlicht in: | Solar energy materials and solar cells 2011-10, Vol.95 (10), p.2886-2892 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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