Microlithographic Patterning of Oligonucleotides:  Toward Fabrication of Multilevel DNA Based Devices

A strategy for achieving geometrical patterning of DNA is described. The approach comprises patterning of oligonucleotides on a glycidyl oxypropyl trimethoxy silane modified Si wafer by spin casting a photoresist mixture consisting of a photoacid generator and a reactive blocking group and exposing...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir 2003-03, Vol.19 (6), p.1948-1950
Hauptverfasser:	Pathak, Srikant, Dentinger, Paul M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!