Titanium oxide film for the bottom antireflective layer in deep ultraviolet lithography

Titanium oxide thin film, fabricated with tetraisopropyltitanate and oxygen by electron cyclotron resonance-plasma-enhanced chemical vapor deposition, is investigated as a potential candidate for the antireflective layer in KrF excimer laser (248-nm) lithography. The oxygen flow-rate dependence of t...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Applied Optics 1997-03, Vol.36 (7), p.1482-1486
Hauptverfasser:	Jun, B H, Han, S S, Kim, K S, Lee, J S, Jiang, Z T, Bae, B S, No, K, Kim, D W, Kang, H Y, Koh, Y B
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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