Method of measuring the spatial resolution of a photoresist

By analysis of the response of a high-contrast photoresist to sinusoidal illumination, generated interferometrically, one can extract a phenomenological modulation transfer function of the resist material, thereby characterizing its spatial resolution. Deep-ultraviolet interferometric lithography al...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Optics letters 2002-10, Vol.27 (20), p.1776-1778
Hauptverfasser:	Hoffnagle, J A, Hinsberg, W D, Sanchez, M I, Houle, F A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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