The effect of germanium on the Co-SiGe thin-film reaction

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of synchrotron radiation 1999-05, Vol.6 (3), p.521-523
Hauptverfasser:	Boyanov, B. I., Goeller, P. T., Sayers, D. E., Nemanich, R. J.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	cobalt silicide MBE segregation SiGe thickness effects
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