Practical, Self-Catalytic, Atomic Layer Deposition of Silicon Dioxide

Molecular self‐attack: According to mythology, a scorpion may sting itself to death; similarly, 3‐aminopropyltriethoxysilane catalyzes its own hydrolysis in the atomic layer deposition (ALD) of SiO2 thin films and nanostructures. Between 120 and 200 °C, the growth rate is constant at 0.06 nm per ALD...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Angewandte Chemie (International ed.) 2008-08, Vol.47 (33), p.6177-6179
Hauptverfasser:	Bachmann, Julien, Zierold, Robert, Chong, Yuen Tung, Hauert, Roland, Sturm, Chris, Schmidt-Grund, Rüdiger, Rheinländer, Bernd, Grundmann, Marius, Gösele, Ulrich, Nielsch, Kornelius
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	atomic layer deposition nanotubes silicon oxide template synthesis thin films
Online-Zugang:	Volltext
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