Prevention of Nanoparticle Coalescence under High-Temperature Annealing

An effective method of employing 3-aminopropyldimethylethoxysilane linker molecules to stabilize 4.4 nm FePt nanoparticle monolayer films on a SiO2 substrate as well as to prevent coalescence of the particles under 800 °C annealing is reported. As-deposited FePt nanoparticle films in chemically diso...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir 2004-12, Vol.20 (26), p.11305-11307
Hauptverfasser:	Mizuno, Mikihisa, Sasaki, Yuichi, Yu, Andrew C. C, Inoue, Makoto
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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