Electron attachment and detachment and the electron affinity of cyclo-C4F8

New measurements have been made of rate constants for electron attachment to c-C(4)F(8) (octafluorocyclobutane) and thermal electron detachment from the parent anion, c-C(4)F(8) (-), over the temperature range 298-400 K in 133 Pa of He gas in a flowing-afterglow Langmuir-probe apparatus. From these...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	The Journal of chemical physics 2004-04, Vol.120 (15), p.7024-7028
Hauptverfasser:	Miller, Thomas M, Friedman, Jeffrey F, Viggiano, A A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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