Crystallization of amorphous silicon thin films using nanoenergetic intermolecular materials with buffer layers
Optimization of the crystallization of amorphous silicon (a-Si) using a mixture of nanoenergetic materials of iron oxide/aluminum (Fe 2O 3/Al) was studied. To achieve high-quality polycrystalline Si (poly-Si) thin films, silicon oxide (SiO 2) and silver (Ag) layer were deposited on the a-Si as buffe...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of crystal growth 2009-02, Vol.311 (4), p.1025-1031 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!