Compensation effect of donor and acceptor impurities co-doping on the electrical properties of directionally solidified multicrystalline silicon ingots

This paper introduces a simple and attractive calculation technique to evaluate the directionally solidified ingot characteristics type when considerable donor and acceptor impurities exist simultaneously in a silicon melt. The threshold limit of boron concentration in n-type ingot is C 0B=0.4375 C...

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Veröffentlicht in:Journal of crystal growth 2009-01, Vol.311 (3), p.773-775
Hauptverfasser: Dhamrin, M., Saitoh, T., Yamaga, I., Kamisako, K.
Format: Artikel
Sprache:eng
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