Compensation effect of donor and acceptor impurities co-doping on the electrical properties of directionally solidified multicrystalline silicon ingots
This paper introduces a simple and attractive calculation technique to evaluate the directionally solidified ingot characteristics type when considerable donor and acceptor impurities exist simultaneously in a silicon melt. The threshold limit of boron concentration in n-type ingot is C 0B=0.4375 C...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of crystal growth 2009-01, Vol.311 (3), p.773-775 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!