Characteristics of ultraviolet nonpolar InGaN/GaN light-emitting diodes using trench epitaxial lateral overgrowth technology

Ultraviolet nonpolar InGaN/GaN light-emitting diodes grown on trench epitaxial lateral overgrowth (TELOG) a-plane GaN template by metalorganic chemical vapor deposition were fabricated. Two emission peaks at 373 and 443 nm are observed from each fabricated device. The double emission peaks feature i...

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Veröffentlicht in:Journal of crystal growth 2008-04, Vol.310 (7), p.2330-2333
Hauptverfasser: Ling, Shih-Chun, Wang, Te-Chung, Ko, Tsung-Shine, Lu, Tien-Chang, Kuo, Hao-Chung, Wang, Shing-Chung
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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