Characteristics of ultraviolet nonpolar InGaN/GaN light-emitting diodes using trench epitaxial lateral overgrowth technology
Ultraviolet nonpolar InGaN/GaN light-emitting diodes grown on trench epitaxial lateral overgrowth (TELOG) a-plane GaN template by metalorganic chemical vapor deposition were fabricated. Two emission peaks at 373 and 443 nm are observed from each fabricated device. The double emission peaks feature i...
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Veröffentlicht in: | Journal of crystal growth 2008-04, Vol.310 (7), p.2330-2333 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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