Contaminant-free layer-by-layer annealing to improve the properties of HfO2/SiO2 optical films for the fs laser

The low laser-induced damage threshold (LIDT) of HfO2/SiO2 films is an important factor in limiting the further development of high repetition rate femtosecond (fs) laser systems. Conventional whole-layer annealing can effectively improve the properties of SiO2 films, but it is difficult to improve...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Optics express 2024-08, Vol.32 (17), p.29301
Hauptverfasser:	Wu, Yuling, Yu, Jingxia, Li, Xue, Wang, Xiangyu, Tang, Min, Li, Bo, Zu, Xiaotao, Yang, Liang, Xiang, Xia
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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