Fowler-Nordheim current modeling of metal/ultra-thin oxide/semiconductor structures in the inversion mode, defects characterization
In this paper, we present a simple model of Fowler-Nordheim (FN) current of metal/ultra-thin oxide/semiconductor (MOS) structures biased in the inversion mode ($V_{g }> 0$) (injection of electrons from the semiconductor). The oxide thickness varies from 45 Å to 110 Å, the gate is in chrome and th...
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Veröffentlicht in: | European physical journal. Applied physics 2004-10, Vol.28 (1), p.27-41 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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