Fowler-Nordheim current modeling of metal/ultra-thin oxide/semiconductor structures in the inversion mode, defects characterization

In this paper, we present a simple model of Fowler-Nordheim (FN) current of metal/ultra-thin oxide/semiconductor (MOS) structures biased in the inversion mode ($V_{g }> 0$) (injection of electrons from the semiconductor). The oxide thickness varies from 45 Å to 110 Å, the gate is in chrome and th...

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Veröffentlicht in:European physical journal. Applied physics 2004-10, Vol.28 (1), p.27-41
Hauptverfasser: Khlifi, Y., Kassmi, K., Aziz, A., Olivie, F.
Format: Artikel
Sprache:eng
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